セラミック真空フィルター機器

最近、中国の大規模な鉱業会社が当社のセラミック真空フィルター機器を注文しました。

当社が開発したCFシリーズセラミック真空フィルターシリーズ製品は、メカトロニクス、セラミックマイクロポーラスフィルタープレート、自動化制御、超音波クリーニングなどのハイテク技術を統合する新製品です。固体分離装置の新しい代替製品として、その誕生は固形液体分離の分野での革命です。よく知られているように、従来の真空フィルターは、高エネルギー消費、高稼働コスト、高ケーキの湿気、低い作業効率、低自動化、故障率の高いメンテナンス作業負荷、高フィルター布の消費を備えています。 CFシリーズセラミック真空フィルターは、独自の設計、コンパクト構造、高度な指標、優れたパフォーマンス、重要な経済的および社会的利益を備えた従来のフィルタリング方法を変更し、非鉄、冶金、化学、医薬品、食品、環境保護、化石燃料発電所、コール処理、下水処理およびその他の産業で広く使用できます。

作業原則

1は、作業の始まりで、スラリータンクに浸されたフィルタープレートは、真空の作用下でフィルタープレートの表面に粒子蓄積の厚い層を形成します。ろ液をフィルタープレートから分布ヘッドまでろ過し、それにより真空バレルに到達します。

2.フィルターケーキが乾燥した後、排出エリアのスクレーパーで削り取られ、細かい砂タンクに直接流れたり、ベルトから目的の場所に運ばれます。

3.荷降ろし後、フィルタープレートは最終的に逆洗面領域に入り、ろ過された水が分布ヘッドを介してフィルタープレートに入ります。逆洗った後、マイクロポアでブロックされた粒子は逆洗い、1つの画像を回転させるろ過動作サイクルを完了します。

4.ルルトルーニッククリーニング：フィルター培地は、通常8〜12時間続く一定の周期的な環状動作を受けます。フィルタープレートの滑らかなマイクロポアを確保するために、超音波洗浄と化学洗浄を組み合わせて、通常は45〜60分間続きます。これにより、フィルタープレートに戻り、フィルタープレートに取り付けられていない固体物質がフィルター培地から完全に分離され、機器が再起動されたときに高い効率が確保されます。

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